製品の特徴

• 電極形成・酸化物薄膜形成用途のスパッタリング装置です。
• マグネトロンソード搭載の省フットプリントタイプです。
• チャンバー増設が3チャンバまで任意に搭載可能です。
• プラズマ発光をモニタリング・フィードバックすることにより、ハイレート化が可能です。

オプション

• PEM(Plasma Emission Controller)
• 800℃加熱

アプリケーション

• 電子部品・MEMS等各種デバイスへの薄膜形成