溶液気化CVD装置

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溶液気化CVD装置

製品の特徴

  • 溶液気化方式を採用し、多種多様な新規有機金属ソースの薄膜形成が可能です。

オプション

  • プラズマ成膜プロセスも可能

アプリケーション

  • 電子部品・MEMS等各種デバイスへの薄膜形成

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