フィルム基板用プラズマCVD装置

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フィルム基板用プラズマCVD装置

製品の特徴

  • 有機シリコンソースを採用しており、デバイスに合わせて材料を選択することが可能です。
  • 当社独自のプラズマ源を採用し、低温プロセス化においても、高密度の薄膜形成が可能です。

オプション

  • 除害設備
  • プラズマエミッションモーター

アプリケーション

  • 樹脂フィルム・薄膜金属フィルム上への絶縁膜形成

その他

有機シラン系材料を使用することにより、酸化物や窒化物への対応をしております。

  • 薄膜特性
  • 電気絶縁性
  • 機械特性
  • バリア性

デバイス特性に応じご提供しております。
お気軽にお問い合わせください。

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