お問い合わせ先

株式会社ユーテック 本社

株式会社ユーテック 流山工場

お問い合わせ

受託成膜のご相談

トップページ > 装置紹介 > CO₂洗浄機:FUBUKI

CO₂洗浄機:FUBUKI

超低露点CO₂スプレー洗浄装置"FUBUKI®"

当社はCO₂スプレー洗浄プロセスを極めます。
お客様の洗浄ニーズに合わせた、最適なCO₂スプレー洗浄装置をご提案いたします。

装置概要

大気/真空下での超低露点空間内、微細ドライアイスパーティクルによる精密洗浄用装置。

特徴

  • 広範囲の均一洗浄、強力なスポット洗浄の選択が可能な、高汎用性ノズルデザイン。
  • 低温時の結露防止を目的とした、チャンバー内低露点管理システムと帯電防止技術。
  • ブローされたCO₂パーティクルの再付着防止設計 (特許出願中)。
  • ランニングコストの抑制を考慮した、高効率CO₂再生システムの確立。

用途

  • 水での洗浄が不可な母材への、前処理洗浄や有機膜除去洗浄。
  • 3Dプリンター加工品、電子デバイス、ガラス基板等の微小バリやカレットの除去。

お客様の応用アプリケーション例

G-MRヘッド ドライエッチング、スパッタリング後のバリ除去。CMP後スラリー除去
半導体 フォトマスク洗浄.フープ洗浄
化合物半導体 メタル・リフトオフプロセス
LCD スクライブ・ブレイク後のガラスパーティクル除去
CCDセンサ マイクロレンズ上のパーティクル除去、パッケージング時のパーティクル除去
有機EL ITO表面の洗浄(ダークスポット除去)
HDDメディア メタル膜成膜前洗浄、DLC成膜前洗浄、HDDハウジング洗浄
光学レンズ 光学膜成膜前洗浄、研磨後のスラリー除去等

装置ラインナップ

フルオートマチック装置 VCCS-01T

Wafer洗浄の為のC to C、枚葉式洗浄装置。

セミオートマチック装置 VCCS-02T

あらゆる基板サイズに対応。実験装置や少量生産品に最適。

このページの上部へ